อุปกรณ์เสริมเครื่อง Coater สำหรับ SEM

MINI Sputter Coater

โลหะที่สามารถเคลือบได้: ทอง (Au), แพลทินัม (Pt) และแพลเลเดียม (Pd)

เทคโนโลยี Magnetron Sputtering แบบคาโทด ให้การเคลือบที่ละเอียดโดยไม่ก่อให้เกิดความเสียหายจากความร้อน
ระบบควบคุมอัตโนมัติผ่านหน้าจอสัมผัส ใช้งานสะดวกและประหยัดเวลา
แท่นวางตัวอย่างแบบหมุนและเอียงควบคุมด้วยระบบดิจิทัล เหมาะสำหรับการเคลือบตัวอย่างแบบ 3 มิติ

J20 Dual-Target Sputter Coater
โลหะที่สามารถเคลือบได้: ทอง (Au), แพลทินัม (Pt) และแพลเลเดียม (Pd) รวมถึงโลหะผสมในสัดส่วนต่าง ๆ เช่น Pt-Au, Pt-Pd เป็นต้น

เทคโนโลยี Magnetron Sputtering แบบหัวเป้าคู่ พร้อมสูตรการเคลือบแบบชั้น Pt-Au ที่ได้รับสิทธิบัตร
เปรียบเสมือน SUV ของเครื่องสปัตเตอร์ รองรับตัวอย่างได้หลากหลายประเภท (Universal Sample Compatibility)
หัวเป้าแบบเอียงและแท่นหมุน ออกแบบมาเพื่อให้เหมาะกับโครงสร้างจุลภาคแบบสามมิติ (3D)

S20 HV Dual-Target Ion Sputter Coater
โลหะที่สามารถเคลือบได้: ทอง (Au), แพลทินัม (Pt), แพลเลเดียม (Pd), โลหะผสมแบบชั้น Pt-Au เป็นต้น

เทคโนโลยี Magnetron Sputtering แบบหัวเป้าคู่ พร้อมสูตรการเคลือบแบบชั้น Pt-Au ที่ได้รับสิทธิบัตร
ระบบปั๊มสุญญากาศสูงแบบไม่ใช้น้ำมัน สะอาด ปราศจากการปนเปื้อนไฮโดรคาร์บอน
หัวเป้าแบบเอียงและแท่นหมุน ออกแบบมาเพื่อให้เหมาะกับโครงสร้างจุลภาคแบบสามมิติ (3D)

SPC150 HV Plasma Cleaner
เทคโนโลยีทำความสะอาดแบบ ICP-RF ระยะไกล ให้พลาสมาที่อ่อนโยนกว่า

ใช้ทำความสะอาดการปนเปื้อนไฮโดรคาร์บอนบนฟิล์มคาร์บอนบางพิเศษ
ใช้ปรับสภาพผิวตัวอย่าง TEM และที่จับตัวอย่างด้วยพลาสมา
ใช้ทำความสะอาดการปนเปื้อนซิลิกอนโดยเฉพาะ